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                                        pecvd石墨舟飽和的簡述
                                        jcadmin   |   2020-08-18 10:29:26

                                        pecvd石墨舟飽和的簡述


                                        石墨舟不同飽和方式的差異

                                        飽和時使用假片 飽和充分:

                                        1、生產成本高;

                                        2、飽和環境和實際鍍膜環境相同:硅片的存在會形成更大面積的電場,產生更多等離子體,石墨舟內壁上沉積的氮化硅膜更充分。

                                        飽和時不使用假片 飽和不夠充分:

                                        1、生產成本低;

                                        2、飽和程度不充分,前期鍍膜均勻性較差,色差片較多。


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